产品介绍
采用物理吸附、化学吸附相结合的工艺对NH
3中的杂质进行深度脱除。
应用领域
半导体生产领域，化工与制药领域
装置特点
1.超高精度净化
★ 专利催化剂技术，先进的无损工艺设计，杂质深度≤100ppb。
2.高稳定性设计
★ 采用国际知名品牌元件；Swagelok全自动轨道焊接 ，采用先进的防爆策略，确保装置安全、稳定运行
3.强抗波动性能
★ 按协议值120%冗余设计，工况波动下气态指标稳定输出。
4.抗意外能力强
纯化装置具有断电保持功能。
5.智慧物联运维
★ 全流程自动运行+远程监控
★ 故障预警联动+运行数据追溯系统
技术参数
